真空腔室：采用304不銹鋼腔室，設(shè)計(jì)有前門(mén)雙導(dǎo)軌和后門(mén)手動(dòng)鉸鏈結(jié)構(gòu)，前后門(mén)帶玻璃觀察窗及防污擋板。腔室內(nèi)外表面經(jīng)過(guò)拋光處理，并預(yù)留有照明、膜厚儀等設(shè)備接口；

真空系統(tǒng)：配備中科科儀脂潤(rùn)滑分子泵FF-200/1300口徑與鮑斯BSV-30機(jī)械泵，具有高效的抽氣能力，抽氣時(shí)間短且極限真空度高（優(yōu)于2.0×10-5Pa），關(guān)機(jī)12小時(shí)后仍可保持良好真空性能；

基片臺(tái)：抽屜式結(jié)構(gòu)，可承載最大L150mm*W150mm樣品，配氣動(dòng)基片大擋板，支持旋轉(zhuǎn)和水冷功能，與蒸發(fā)源距離可調(diào)，手動(dòng)升降調(diào)節(jié)最大50mm可調(diào)；

蒸發(fā)源及電源：系統(tǒng)配置3組舟式蒸發(fā)源，金屬源采用水冷銅電極+蒸發(fā)舟結(jié)構(gòu)，最高溫度可達(dá)1500℃；并配備2.4KW蒸發(fā)電源，支持恒流和恒壓兩種驅(qū)動(dòng)模式，可手動(dòng)/軟件控制也可通過(guò)膜厚儀PID控制調(diào)節(jié)蒸發(fā)速率；

膜厚控制系統(tǒng)：采用進(jìn)口INFICON公司的SQC-310膜厚儀，精度高達(dá)0.01埃，能自動(dòng)控制金屬蒸發(fā)電源輸出。同時(shí)，還配備了西門(mén)子PLC+觸摸屏手自動(dòng)控制系統(tǒng)，可以輸入速率和終厚，通過(guò)PID調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸發(fā)電源輸出的控制；

多項(xiàng)安全保護(hù)功能疊加，安全系數(shù)大大增加；

機(jī)械泵前加裝分子篩，抽氣口加裝過(guò)濾網(wǎng)、百葉窗等防護(hù)件，氣路設(shè)計(jì)避免揚(yáng)塵；

所有樣品臺(tái)、源擋板，樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)均采用磁流體密封，保證系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

鈣鈦礦手套箱蒸鍍一體機(jī)

密閉循環(huán)，手套箱內(nèi)的惰性氣體經(jīng)循環(huán)風(fēng)機(jī)和凈化器密閉循環(huán)，不斷地除水除氧；

自動(dòng)控制再生，除水除氧材料可以再生，再生過(guò)程由程序控制；

自動(dòng)清洗，手套箱內(nèi)的氣氛置換通過(guò)自動(dòng)控制的清洗閥門(mén)完成；

箱體壓力控制，手套箱內(nèi)壓力通過(guò)PLC自動(dòng)；

真空泵自動(dòng)控制，真空泵可在系統(tǒng)需要時(shí)自動(dòng)開(kāi)啟；

手套箱用于操作蒸鍍儀的手套位高度比常規(guī)手套位高度高50mm，更方便對(duì)蒸鍍儀進(jìn)行操作；

側(cè)面預(yù)留有安裝釘，可用于固定蒸鍍儀的支架和觸摸屏；

大過(guò)渡艙補(bǔ)氣采用氣瓶補(bǔ)氣方式。